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Acquisition, Delivery, Installation And Commissioning Of A Vapor Phase Xenon Difluoride Xef2 Etching System For The Etching Of Silicon For The Iemn Laboratory.

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General Information
   Sep 25, 2024
   French
   Other
   published: Sep 25, 2024

Original Text

Accédez à la source de cet avis - Date et heure limite de remise des plis : 21/10/2024 14:00 (heure de Paris)
- Référence : 202405071010
- Intitulé : Système de gravure par Difluorure de Xénon XeF2 en phase vapeur pour la gravure du Silicium
Objet : Acquisition, livraison, installation et mise en service d'un système de gravure par Difluorure de Xénon XeF2 en phase vapeur pour la gravure du...
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